直線導軌R180655331/R180665331/R180665231
鍍鉻液在普通鍍鉻液基礎上，加入硼酸和氧化鎂，允許 較的電流密度，從而提了沉積速度，所得鍍層的內應力小，與基體的結合力。
⑤四鉻酸鹽鍍鉻液這類鍍液的鉻酐濃度較，鍍液中除含有鉻酐，還含有氫氧化鈉和氟化鈉，以提陰極極化作用。添加檸檬酸鈉以掩蔽鐵離子。這類鍍液的主要優(yōu)點是電流（35%以上），沉積速度 、
鍍液的分散能力，但鍍液在室溫下，操作溫度不宜超過24℃，采用電流密度時需冷卻鍍液；鍍層的光亮性差，硬度較低，鍍后需經(jīng)拋光才能滿足裝飾鉻的要求。
⑥常溫鍍鉻鍍液由鉻酐和氟化物（NH4F或NaF）組成，也可加入少量的。這種鍍液的工作溫度（15～25℃）和電流密度（8～12A/dm2）低，沉積速度慢，適用于薄層電鍍。其電流效率和分散能力較，可用于掛鍍和滾鍍。
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低濃度鉻酸鍍鉻鍍液中鉻酐濃度較標準鍍鉻液低5倍，可大大降低對環(huán)境的污染。電流效率及鍍層的硬度介于標準鍍鉻液和復合鍍鉻液之間，其覆蓋能力和耐蝕性與濃度鍍鉻 。但鍍液的電阻大，槽電壓，對整流設備要求嚴格，同時鍍液的覆蓋能力有待提。
⑧三鉻鍍鉻鍍液中以Cr3+化合物為主鹽，添加絡合劑、導電鹽及添加劑。該工藝消除或降低了環(huán)境污染，鍍液的分散能力和覆蓋能力較鉻酸鍍液，陰極電流效率有所改善；可常溫施鍍；槽壓低；電鍍不受電流中斷的影響。但鍍液對雜質敏感，鍍層的光澤較暗，鍍層厚度為幾微米，并不能隨意增厚；鍍層的硬度低，鍍液成分復雜不利于維護。
⑨稀土鍍鉻液在傳統(tǒng)鍍鉻液的基礎上加入一定量的稀土元素及氟離子。采用稀土元素可降低鉻酐的濃度、拓寬施鍍溫度范圍（10～50℃）及陰極電流密度范圍（5～30A/dm2），降低槽壓，改善鍍層的光亮度及硬度。使鍍鉻生產(chǎn) 低溫度、低能耗、低污染和效率，即所謂的“三低一”鍍鉻工藝。但對于鍍液的性和性，尚有不同的看法，尤其是對其機理的研究還有待深入。
