下鎖導(dǎo)軌R180750331/R180760331/R180760231

天津福業(yè)動(dòng)力機(jī)械科技發(fā)展有限公司

 鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的惟一源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變動(dòng)。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，陰極電流密度10A/dm2時(shí)，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變動(dòng)，甚至達(dá)800g/L時(shí)，均可獲得光亮鍍鉻層。但這并不表示鉻酐濃度可以隨意改變，一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g/L之間。鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定作用，在每一個(gè)溫度下有一個(gè)相應(yīng)于電導(dǎo)率的鉻酐濃度；鍍液溫度升，電導(dǎo)率大值隨鉻酐濃度增加向稍的方向移動(dòng)。因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較的鍍鉻液。但采用濃度鉻酸電解液時(shí)，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，一方面造成材料的無(wú)謂消耗，同時(shí)還對(duì)環(huán)境造成一定的污染。而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過或過低將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。含鉻酐濃度低的鍍液電流，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，主要的取決于鉻酐比值

下鎖導(dǎo)軌R180750331/R180760331/R180760231

 除根外，氟化物、氟硅酸鹽、氟硼酸鹽以及這些陰離子的混合物常常作為鍍鉻的催化劑。當(dāng)催化劑含量過低時(shí)，得不到鍍層或得到的鍍層很少，主要是棕色氧化物。若催化劑過量時(shí)，會(huì)造成覆蓋能力差、電流效率下降，并可能導(dǎo)致局部或沒有鍍層。較的催化劑為。的含量取決于鉻酐與的比值，一般控制在80～100：1，值為100：1。當(dāng)根含量過時(shí)，對(duì)膠體膜的溶解作用，基體露出的面積大，電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻，有時(shí)發(fā)花，特別是凹處還可能露出基體金屬。