蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 濕制程設(shè)備是通過(guò)化學(xué)溶液或電化學(xué)反應(yīng)，對(duì)半導(dǎo)體、金屬、玻璃等材料進(jìn)行清洗、腐蝕、顯影等工藝的自動(dòng)化設(shè)備。其核心功能包括均勻噴淋/浸沒處理、蝕刻液循環(huán)過(guò)濾、溫度與...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-07-07 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)腐蝕機(jī)是用于金屬材料或半導(dǎo)體晶圓圖案化加工的自動(dòng)化設(shè)備，通過(guò)化學(xué)蝕刻液精準(zhǔn)去除指定區(qū)域，實(shí)現(xiàn)微米級(jí)精度控制。其核心功能包括噴淋/浸沒式腐蝕、蝕刻液循環(huán)過(guò)濾...
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詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)是晶圓制造中用于去除表面污染物、顆粒、金屬殘留及氧化層的核心設(shè)備，通過(guò)化學(xué)或物理手段確保硅片潔凈度。典型工藝包括RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗（SC-1/SC-...
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詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體濕法設(shè)備是晶圓制造中核心工藝設(shè)備，通過(guò)化學(xué)或物理方法實(shí)現(xiàn)清洗、腐蝕、顯影、鍍膜等濕法工藝。典型設(shè)備包括RCA清洗機(jī)（SC-1/SC-2溶液）、兆聲波清洗機(jī)...
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詳細(xì)摘要： 有機(jī)去膠清洗機(jī)是半導(dǎo)體、光伏等領(lǐng)域中用于去除光刻膠（PR）或有機(jī)物殘留的關(guān)鍵設(shè)備，主要通過(guò)化學(xué)溶劑（如丙酮、NMP等）結(jié)合兆聲波、噴淋或加熱等方式，高效剝離硅片...
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詳細(xì)摘要： 芯矽半導(dǎo)體清洗設(shè)備是專為半導(dǎo)體制造工藝設(shè)計(jì)的清洗解決方案，覆蓋晶圓、光罩及封裝環(huán)節(jié)的精密清潔需求。其核心技術(shù)包括兆聲波空化清洗、等離子表面活化及化學(xué)濕法腐蝕，可...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-07-04 在線留言
詳細(xì)摘要： 實(shí)驗(yàn)室器皿清洗機(jī)通過(guò)超聲波、高溫噴淋或酸液浸泡等技術(shù)，高效清除玻璃、塑料器皿表面的化學(xué)殘留、生物污染物及顆粒。其核心功能包括多程序預(yù)設(shè)、溫控消毒、酸霧回收及烘干...
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詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)硅料酸洗機(jī)是光伏與半導(dǎo)體行業(yè)的核心設(shè)備，用于高效去除硅料表面的金屬雜質(zhì)、氧化物及有機(jī)污染物。其通過(guò)酸性溶液（如HF、HNO?混合酸）浸泡或噴淋硅料，結(jié)合超...
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詳細(xì)摘要： 濕法設(shè)備半導(dǎo)體清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中關(guān)鍵工藝設(shè)備，通過(guò)化學(xué)或酸性溶液去除晶圓表面污染物（如顆粒、氧化物、光刻膠殘留）。廣泛應(yīng)用于晶圓制造、光罩清洗及封裝前處理。
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詳細(xì)摘要： 8寸單片式清洗設(shè)備專為半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)計(jì)，采用獨(dú)立腔體結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)單片獨(dú)立處理，避免交叉污染。設(shè)備集成化學(xué)清洗（RCA工藝）、兆聲波空化、DIW噴淋及IPA干燥技術(shù)...
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詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)FOUP清洗機(jī)專為半導(dǎo)體制造中的晶圓傳輸容器（FOUP/FOSB）設(shè)計(jì)，通過(guò)高精度清洗技術(shù)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化去污與干燥，確保晶圓存儲(chǔ)環(huán)境的潔凈度。
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詳細(xì)摘要： BOE硅片清洗機(jī)專為半導(dǎo)體、光伏及光學(xué)玻璃領(lǐng)域設(shè)計(jì)，通過(guò)化學(xué)腐蝕與物理清洗結(jié)合，高效去除硅片表面污染物（如氧化硼、顆粒、金屬殘留等）。設(shè)備支持自動(dòng)化酸洗、水洗、...
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詳細(xì)摘要： 12寸晶圓單片清洗機(jī)專為半導(dǎo)體制程設(shè)計(jì)，采用單片獨(dú)立清洗模式，避免交叉污染，確保晶圓表面潔凈度達(dá)納米級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備支持多種化學(xué)藥液（如HF、H?O?等）與兆聲波聯(lián)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-07-04 在線留言
詳細(xì)摘要： 晶圓片清洗設(shè)備專為半導(dǎo)體制程設(shè)計(jì)，集成化學(xué)濕法與超聲清洗技術(shù)，高效去除晶圓表面微粒、氧化物及殘留污染物。設(shè)備支持單片或批量清洗，兼容RCA標(biāo)準(zhǔn)工藝，配備高精度噴...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-07-04 在線留言
詳細(xì)摘要： 硅片清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于去除硅片表面的顆粒、有機(jī)物、金屬污染物及氧化層等雜質(zhì)，確保芯片性能與良率。其核心原理包括物理清洗和化學(xué)清洗。設(shè)備類...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-07-04 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)RCA清洗設(shè)備是半導(dǎo)體、微電子等領(lǐng)域關(guān)鍵的清洗裝置。基于RCA清洗原理，能高效去除硅片等表面的有機(jī)物、顆粒及金屬污染物。集成自動(dòng)化控制，可實(shí)現(xiàn)多道清洗工序...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-07-04 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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