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通風(fēng)柜是實驗室操作臺的一種。在實驗室中起到排風(fēng)和換氣的功效。通風(fēng)柜的結(jié)構(gòu)是上下式，其頂部有排氣孔，可安裝風(fēng)機。上柜中有導(dǎo)流板，電路控制觸摸開關(guān)，電源插座等 ，透...

刻蝕工藝是選擇性地從晶圓表面去除不需要的材料以達(dá)到集成電路芯片制造要求的工藝過程。 刻蝕工藝可以分為圖案刻蝕(pattern)與 無圖案刻蝕(blanket)兩...

供液系統(tǒng)（CDS）是濕法清洗設(shè)備中的一種自動化液體供應(yīng)系統(tǒng)，通過供液泵、管道系統(tǒng)、閥門和控制系統(tǒng)等組成，將液體供應(yīng)到各個終端設(shè)備，提高了供液的精度和安全性，廣泛...

以純水、酸性藥液或有機試劑作為清洗劑，采用噴淋、熱浸等清洗方式，對晶圓進(jìn)行批量清洗。

RCA槽式清洗機 是一種主要用于去除硅片表面各類玷污，是半導(dǎo)體制造過程中被廣泛應(yīng)用的工藝。 主要由兩只 石英加熱缸 、兩套溫度控制系統(tǒng)（石英缸數(shù)量可根據(jù)客戶要求...

兆聲波清洗不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，瞬...

線性布局，自動傳片，自動完成去膠工藝。 晶圓尺寸根據(jù)用戶需求。 腔體共有三層，每層都有單獨的藥液排放 循環(huán)功能。 清洗多種金屬顆粒和有機物殘留。 藥液在循環(huán)中，...

設(shè)備應(yīng)用濕法制程有機溶劑清洗，觸控人機或PC界面搭配PLC的軟件控制，由機械手臂180度 旋轉(zhuǎn)設(shè)計執(zhí)行槽位間的晶圓輸送，依制程需求或場地需求，配置多款制程槽位模...

超聲波清洗設(shè)備是利用超聲波在液體中的社會化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用對液體和污物直接、超聲波清洗間接的作用，使污物層被分散、乳化、剝離而達(dá)到清洗目的。 超聲波...

腐蝕清洗機是晶圓蝕刻清潔系統(tǒng),滿足晶片、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求。